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電感耦合等離子清洗機 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20 個配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯,PLC 控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。
CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計,清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
CIF紫外臭氧清洗機,UV Ozone Cleaner采用長壽命UV石英低壓汞蒸汽格柵燈,樣品臺高度可調(diào)并可選配加熱控溫功能,以達到清洗效果。
等離子灰化儀又稱等離子有機質(zhì)去除儀用于煤與生物質(zhì)樣品的低溫灰化,SEM&TEM中有機樣品刻蝕,塑料品的表面處理以及有機材料的微觀灰化。
CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導成膜”原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設備,通過真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā),驅(qū)動溶質(zhì)(如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等)快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢,廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。
CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設備,集*控制技術與人性化設計于一體,可實現(xiàn)精準、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實驗與精密制造領域,為用戶提供高質(zhì)量、一致性高的鍍膜效果。
CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機,采用 RIE 反應離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。

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