CIF離子濺射儀

簡要描述：CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設備，集*控制技術與人性化設計于一體，可實現(xiàn)精準、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實驗與精密制造領域，為用戶提供高質量、一致性高的鍍膜效果。

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產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應用領域	生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥

CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的較高精度設備，集*控制技術與人性化設計于一體，可實現(xiàn)高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實驗與精密制造領域，為用戶提供高質量、一致性高的鍍膜效果。

產(chǎn)品特點：

u 智能觸控，數(shù)據(jù)可視：7英寸彩色觸摸屏，支持中英文界面，實時監(jiān)測并調控工藝參數(shù)；可存儲20組配方程序，數(shù)據(jù)全程可追溯，確保工藝標準化與重復性。

u 靈活操控，雙模式適配： PLC控制系統(tǒng)，支持手動/自動切換，適應多樣應用場景，操作更自由。

u 控氣，工藝兼容性強：氣體流量自動調節(jié)，內置質量流量計，控制氣體流量（0-500sccm），支持氧氣、氬氣、氮氣等多種工藝氣體，滿足多樣化鍍膜需求。

u 均勻鍍膜，一致性高：樣品臺可旋轉（0–50rpm可調）并具備高度調節(jié)功能（15–50mm），顯著提升膜層均勻性與一致性，適配多種靶材。

u 人性化設計，操作舒適：60°傾角操作面板，符合人機工程學，界面清晰簡潔，操作流暢便捷。

u 低溫處理，樣品無損：鍍膜過程中樣品溫度維持在40–50℃，有效避免熱損傷與熱氧化，保留樣品本征特性。

u 潔凈防護，避免污染：配備氣體返填吹掃與HEPA高效過濾系統(tǒng)，防止污染物殘留，確保鍍膜環(huán)境潔凈可靠。

u 多重安全保障：艙門開啟自動斷電，內置多項安全保護機制，使用更安心。

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