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等離子去膠機(jī)是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設(shè)備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機(jī)污染物，廣泛應(yīng)用于芯片制造、封裝測(cè)試等工藝環(huán)節(jié)。氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過射頻(RF)電源...

在芯片制造、傳感器開發(fā)或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)生產(chǎn)中，材料的微米甚至納米級(jí)加工是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)傳感器表面的微結(jié)構(gòu)需要準(zhǔn)確到微米級(jí)厚度，它通過物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，成為半導(dǎo)體和微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)工具。RI...

等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用的設(shè)備，它利用等離子體這一特殊的物質(zhì)形態(tài)，對(duì)材料表面進(jìn)行準(zhǔn)確的處理，從而改善材料的表面性能，滿足不同行業(yè)對(duì)材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗機(jī)的工作原理基于紫外線(UV)與臭氧(O2)的協(xié)同作用。紫外線照射能夠激發(fā)空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周圍的氧氣分子結(jié)合，生成臭氧。臭氧作為一種強(qiáng)氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機(jī)污染物發(fā)生化...

紫外臭氧清洗機(jī)是一款用于無機(jī)基材表面有機(jī)污染物去除的表面清洗設(shè)備，能夠簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。紫外臭氧清洗機(jī)的選購(gòu)注意要點(diǎn)：1.清洗面積：根據(jù)實(shí)際需要清洗的基片或物品的大小，選擇具有合適有效清洗面積的清洗機(jī)。2.清洗效果：關(guān)注清洗機(jī)...

低溫等離子有機(jī)質(zhì)去除儀被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域中，如化工業(yè)、造紙業(yè)、制藥業(yè)等，用于去除異味、惡臭及有機(jī)質(zhì)，其使用流程包括開機(jī)前的準(zhǔn)備、開機(jī)與預(yù)熱、運(yùn)行與監(jiān)控、停機(jī)與清理以及注意事項(xiàng)等多個(gè)環(huán)節(jié)，只有嚴(yán)格按照流程操作，才能確保設(shè)備的正常運(yùn)行。低溫等...

粉體在生產(chǎn)和加工過程中，往往會(huì)附著一些難以清洗的污垢和氧化物，這些污垢和氧化物會(huì)影響粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)能夠通過等離子體的化學(xué)反應(yīng)原理，將這些污垢和氧化物分解并清洗掉，從而提高粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)就是在常...